液処理装置

Liquid processing unit

Abstract

【課題】液切りローラやエアーを用いることなく、処理液を供給する装置から処理液の持ち出し量を抑制することを目的とする。 【解決手段】基板Wの表面WSに対して現像液を供給して表面処理を行う現像装置20は、現像装置20の内部で基板Wを水平方向に搬送させる搬送ローラ40と、搬送ローラ40により搬送される基板Wの全面に対して現像液を供給するシャワー50と、現像装置20の搬出口42近傍に配置され、基板Wに対して斜め上方から基板Wの搬送方向の反対方向に向かって現像液を噴射することにより、基板Wの表面WSに溜まった液溜まりを除去するスリットノズル60と、を有している。現像液の押し出しにスリットノズル60からの現像液を用いているため、乾燥によってムラが生じることはなく、メンテナンス作業も必要とならない。 【選択図】 図2
PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress an amount of taking out a processing liquid from a unit for supplying the processing liquid without using any liquid end roller and any air. SOLUTION: A development counter 20 which supplies developer to a front surface WS of a substrate W and performs a surface preparation is equipped with: a conveyance roller 40 for horizontally conveying the substrate W inside the development counter 20; a shower 50 for supplying the developer to the whole surface of the substrate W conveyed by the conveyance roller 40; and a slit nozzle 60 which is arranged near a taking-out aperture 42 of the development counter 20 and removes liquid pool collecting on the front surface WS of the substrate W by injecting the developer from a slanting upper part to the substrate W toward an opposite direction of the conveyance direction of the substrate W. Since the developer from the slit nozzle 60 is used for pushing out the developer, any unevenness isn't generated by drying and any maintenance operation isn't needed either. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

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    WO-2017164126-A1September 28, 2017東レ株式会社現像装置及び回路基板の製造方法